熔體過濾器的清洗(高溫水解法)

清洗的目的是使臟的燭式濾芯上聚合物的殘留物盡可能的少,以便進行下一步的TEG清洗和堿洗。熔體過濾器的自清洗分為3個大的步驟。水解、預氧化、氧化。其中水解、預氧化這2個步驟又各分為2個階段,每個階段的控制溫度都有所不同。

清洗的步驟

第1個階段———水解階段。啟動過熱加熱器E01,并打開蒸汽閥EV2,用經過過熱處理的高溫蒸汽作為熱載體促進濾芯表面的聚合物進行裂解,將聚合物的分子鏈打斷,使之成為小分子的結構,使其黏度下降。在該過程中,蒸汽同時還有一個作用,就是作為輸送載體,將裂解產生的裂解氣體和裂解產生聚合物顆粒從濾芯上帶走,這時蒸汽同時起了輸送介質的作用。該階段主要目的是將高黏度的熔體進行降黏處理,使包在濾芯上的熔體盡可能地變成小顆粒結構,使后面的預氧化、氧化階段進行的更充分。

第2個階段———預氧化階段。此階段過熱加熱器E01溫度繼續升高,蒸汽閥EV2保持打開狀態蒸汽繼續加入。在此階段的第1個小步驟中,打開1個小空氣閥EV6;在第2個小步驟中,2個小空氣閥EV6、EV5都打開,溫度繼續升高。在水解階段完成了基本的裂解反應,在經過了長時間的反應后,濾芯表面的熔體形成了有顆粒特性的蜂窩狀結構,繼續使用蒸汽難以更徹底地將它們清洗干凈,在這種情況下,在蒸汽中加入少量的空氣可以使顆粒的表面進行微量的氧化反應,由于要控制氧化反應的過程,所以只能少量的增加氧氣的數量,減少進入反應的氧氣的濃度,在第1和第2階段分別開了1個和2個8mm的小空氣閥。

第3個階段———氧化階段。將蒸汽閥EV2關閉,2個8mm的小空氣閥EV6、EV5也關閉,開通了20mm的大空氣閥EV1。這時,比較容易反應的熔體小顆粒已經進行比較完全的氧化反應,部分顆粒較大的在表面已經進行了初步的氧化反應,在氧氣的濃度加大后,使氧化反應進行的更為完全。眾所周知,化學反應的劇烈程度是和反應物質的濃度密切相關的,自清洗的基本原理就是讓包在濾芯上的熔體在水解過程中盡可能地變成小顆粒狀的結構,在通入氧氣后進行氧化反應,使熔體顆粒在濾芯上進行微量的燃燒,從而達到清洗的目的。第2個階段—預氧化階段和第3個階段—氧化階段其實主要的反應都是氧化反應,只是氧化反應的環境有所區別,氧氣的濃度有所不同。